OPTO-EDU A50.7038離子束刻蝕機

 

OPTO-EDU A50.7038離子束蝕刻機集TEM、SEM樣品銑削（拋光）、蝕刻、高真空離子濺射鍍膜三合一為一體，2個獨立控制離子槍，機械+分子泵，大加工面積25mm，10英寸彩色液晶觸摸屏，內置計算機和控制系統，簡單菜單全自動工作。

科研實驗應用：適用于材料科學、納米技術和光學領域的研究和制造。用于納米結構的制備和加工、半導體工藝中去除材料的特定部分、集成電路和納米器件的制造、光學元件和光子學器件的加工、表面改性和納米紋理制備等。

OPTO-EDU A50.7038離子束刻蝕機技術參數：

• 離子源：氬離子，可選氙離子
• 離子槍：2支對角離子槍（標配），可獨立控制，90°或180°位置，可升級至4支離子槍
• 自動銑削：銑削角度0°~90°（標準銑削角度0°，其他角度機械可調）
• 離子束能量：0~6kV（低能銑削），0~10kV（高能蝕刻）
• 離子電流密度峰值：10毫安/平方厘米
• 氣體流量控制：0~10ml/min可調
• 光斑尺寸：300μm~500μm和1.5mm~2.5mm
• 銑削階段：360°連續旋轉，適用于平面銑削和截面銑削
• 旋轉速度：6–10轉/分鐘
• 泵系統：主體機械泵+渦輪分子泵
• 真空：極限真空度5x10-3Pa
• 真空計：數字真空采集系統
• 標本氣閘：樣品交換抽真空時間2.5分鐘
• 屏幕：10英寸彩色觸摸屏
• 主體尺寸（長x寬x高）：380x405x560mm
• 主體重量：48公斤

OPTO-EDU A50.7038離子束刻蝕機使用方法：

1. 準備待加工樣品，并將其放置在刻蝕室中的樣品臺上。
2. 設置刻蝕參數，如離子束能量、束流密度和刻蝕時間等。
3. 調節束流控制器，使離子束對樣品表面進行加工。
4. 監測刻蝕過程，可以使用原位表征技術或離線測試方法進行表征和評估。
5. 根據需要進行后處理，如清洗、退火或涂覆等。

OPTO-EDU A50.7038離子束刻蝕機有哪些實驗室在用：

• 中國科學院微電子研究所
• 北京大學微電子學院
• 西安電子科技大學微電子技術國家重點實驗室
• 同濟大學先進制造技術學院
• 中國科學技術大學先進制造技術國家工程實驗室

OPTO-EDU A50.7038離子束刻蝕機售后服務支持：

• 可選購1-3年質保服務。
• 全年24小時在線技術支持。
• 定期進行設備檢測、固件升級和系統維護。
• 自定義定制檢測報告和優化方案。
• 如質保期內無法現場修復，提供換機服務。
• 使用培訓和工藝技術支持咨詢。

相關產品：

樣品準備設備：樣品清洗、退火或涂覆等預處理的設備，如清洗機、退火爐或濺射鍍膜設備。

表征設備：用于刻蝕前后樣品表征和評估的設備，如掃描電子顯微鏡（SEM）或原子力顯微鏡（AFM）等。

掩膜技術：用制備和保護特定區域的掩膜技術，如光刻或電子束曝光技術。

氣相化學反應裝置。